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81.
1μm宽硅深槽刻蚀技术   总被引:1,自引:1,他引:0  
王清平  郭林 《微电子学》1996,26(1):35-39
介绍了硅深槽刻蚀的基本原理和影响刻蚀效果的几个主要工艺因素。提出了一种实现1μm宽的硅深槽刻蚀工艺途径;并给出了1μm宽、8μm深、侧壁及底部光洁的硅深槽刻蚀工艺条件。  相似文献   
82.
本文将奇异摄动系统看成是存在参数扰动的广义系统的一种特殊形式,然后利用广义系统特征结构配置来使广义系统的有限闭环极点尽可能接近奇异摄动系统的闭环主导极点,从而达到近似配置奇异摄动系统主导极点的目的。本文提供的算法是数值稳定的。  相似文献   
83.
稀疏效应下一类捕食者与食饵系统极限环   总被引:1,自引:0,他引:1  
研讨了稀疏效应下一类捕食者与食饵系统 :x· =x(x(r-x) -y) ,y· =b0 y(x -m) .讨论了该系统平衡点的性态 ,并证明了该系统极限环的存在性和唯一性 .  相似文献   
84.
高速线材轧制用硬质合金轧辊的质量控制   总被引:1,自引:1,他引:0  
通过对高速线材轧制用硬质合金轧辊 (轧槽 )失效机理的分析 ,提出了高速线材轧制用硬质合金轧辊质量控制的基本方法 ,认为轧辊质量控制的关键在于轧辊材料设计、生产工艺过程控制、轧制过程、轧机工况、轧辊储运装卸以及轧制环境因素的控制 ,并建议尽早制订相关的材料和产品质量标准。  相似文献   
85.
胆甾相液晶的光学特性   总被引:15,自引:8,他引:7  
基于胆甾相液晶的特殊分子结构,综合阐述了胆甾相液晶的旋光性、选择性光散射和偏振光二色性等光学特性,揭示了它的光学特性主要源于它螺旋状的分子结构及其光学各相异性。  相似文献   
86.
波分复用系统中的交错复用器(Interleaver)技术   总被引:4,自引:1,他引:3  
鉴于波分复用技术已成为光纤通信的发展方向,介绍几种新型的交错复用器的原理、结构等情况,对各种器件进行了比较。  相似文献   
87.
五氯吡啶的合成研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
以吡啶为原料,氯气为氯化剂,通过固定床催化反应合成了五氯吡啶。为此,在分析反应机理的基础上,分别以第Ⅱ、Ⅷ和IB族的金属盐类或其混合物为活性成分制备了一系列催化剂,并在493-663K、空速200—1200hr^-1、吡啶/氯气摩尔比(R)1:6—1:12范围内,对上述各催化剂性能进行考察。结果表明,Ba、Ca、La、Rh等金属的盐类混合物对本反应有较高的活性,收率高达95%,纯度96%(GC)。同时还获得了针对该催化剂适宜的工艺参数:温度590-650K,空速600-800hr^-1,R为8.5。  相似文献   
88.
利用MEMS工艺以及硅的湿法刻蚀工艺制作了一种硅衬底镂空结构的圆形射频微电感,并研究了硅衬底背面减薄对射频微电感性能的影响,结果表明:微电感硅衬底经过局部刻蚀减薄后其自谐振频率上升,电感量的频率稳定性提高,而其最大Q值下降。  相似文献   
89.
以东濮凹陷文明寨油田历年井况调查的套管损坏资料为依据,在对出砂油井套管损坏形态、层位与射孔状况、岩石性质等因素进行综合分析基础上,对疏松砂岩出砂、上覆岩层坍塌等主要方面导致的套管受力变形进行研究,为探讨防治措施提供依据。  相似文献   
90.
蒸发式空冷器的运行实践   总被引:1,自引:0,他引:1  
蔡飞  唐永明 《冶金动力》2006,(4):55-57,60
通过了解蒸发式空冷器的工作原理和结构,在运行实践过程中,对组成设备出现的问题提出相应的解决方案,并对部分组成设备提出改进的建议,以方便检修和维护,并提出了在冬季长时间高炉休风情况下保证水温不下降过低的解决方案。  相似文献   
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